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磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理

日期:2025-11-21 21:52
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摘要:磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理 渦流法(非磁性金屬集體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測(cè)量) 1.標(biāo)準(zhǔn):GB/T 4957─1985,本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用渦流儀器無(wú)損測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度的方法,該方法適用于測(cè)量大多數(shù)陽(yáng)極氧化覆蓋層的厚度,但不適用于測(cè)量所有薄的轉(zhuǎn)化膜。 2.測(cè)量原理:渦流測(cè)厚儀的測(cè)厚裝置所產(chǎn)生的高頻電磁場(chǎng),使置于測(cè)頭下面的導(dǎo)體產(chǎn)生渦流,其振幅和相位是導(dǎo)體與側(cè)頭之間的非導(dǎo)電覆蓋層厚度的函數(shù)。 磁性法(磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量) 1.標(biāo)準(zhǔn):GB/T 4956─1985,本標(biāo)...
磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理

      渦流法(非磁性金屬集體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測(cè)量)

1.標(biāo)準(zhǔn):GB/T 4957─1985,本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用渦流儀器無(wú)損測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度的方法,該方法適用于測(cè)量大多數(shù)陽(yáng)極氧化覆蓋層的厚度,但不適用于測(cè)量所有薄的轉(zhuǎn)化膜。

2.測(cè)量原理:渦流測(cè)厚儀的測(cè)厚裝置所產(chǎn)生的高頻電磁場(chǎng),使置于測(cè)頭下面的導(dǎo)體產(chǎn)生渦流,其振幅和相位是導(dǎo)體與側(cè)頭之間的非導(dǎo)電覆蓋層厚度的函數(shù)。

      磁性法(磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量)

1.標(biāo)準(zhǔn):GB/T 4956─1985,本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用磁性測(cè)厚儀器無(wú)損測(cè)量磁性金屬基體上非磁性(包括釉瓷和搪瓷)覆蓋層厚度的方法,該方法適用于平試驗(yàn)上的測(cè)量,不適用于非磁性基體上覆蓋層的測(cè)量。

2.測(cè)量原理:磁性測(cè)厚儀是測(cè)量長(zhǎng)久磁鐵(側(cè)頭)和基體金屬之間由于存在覆蓋層而引起磁引力的變化,或者是測(cè)量通過(guò)覆蓋層與基體金屬磁路磁助的變化。

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